ENEL-SHARP SIGLANO UN ACCORDO SUL FOTOVOLTAICO

L’ accordo tra Enel e Sharp è stato ufficializzato il 15 maggio 2008 a Roma, i due punti principali su cui verte l’intesa sono: l'installazione entro il 2011 di nuovi campi fotovoltaici per un totale di 161 MW in grado di produrre l'energia di cui hanno bisogno oltre 81.500 famiglie e la realizzazione in Italia di un impianto industriale per la produzione integrata di pannelli fotovoltaici basati sulla tecnologia di Sharp, un avanguardistico film sottile a tripla giunzione.
Questo nuovo film sottile permetterà di risparmiare sul silicio ottenendo dei risparmi economici mantenendo l’efficienza dei moduli tradizionali.